公益社団法人 日本表面科学会

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第82回表面科学研究会 原子膜研究の最前線

主催

公益社団法人 日本表面科学会

開催日

2014年7月25日(金)

締切日

2014年07月23日

会場

東京工業大学 (大岡山キャンパス)

本館3階 理学系第2会議室 (345号室)

〒152-8551 東京都目黒区大岡山2-12-1 TEL:03-5734-2610

東京急行目黒線・大井町線「大岡山」駅下車 徒歩約3分

 

プログラム

単原子レベルの薄膜である原子膜では、通常のスケールとは全く異なる物性が顕になります。この原子膜の示す特異な物性を解明し利用することが出来れば、革新的なデバイスの開発へとつながることから、活発に研究が行われています。近年、層状のバルク材料から剥離により形成したグラフェンや原子膜、化学的な反応により形成した原子膜、あるいは気相成長により形成した原子膜など、様々な原子膜が報告されています。グラフェンもそのまま利用するのではなく、酸化をはじめとする化学修飾を施すことで、さらなる機能が発現します。本研究会では、グラフェンから酸化物まで様々な物質の原子膜の作製、基礎物性、デバイス応用に関して、最先端の研究を展開しておられる講師の方々からお話を伺い、原子膜研究の最前線と今後の展望を議論致します。多くの方のご参加をお待ちしています。

 

13:00-  はじめに

13:05- 「グラフェンをはじめとした二次元原子膜のCVD成長」

吾郷浩樹(九大先導研)

13:40- 「ナノグラフェンの化学と電子物性」

藤井慎太郎(東工大院理工)

14:25- 「グラフェンにおける局所格子ひずみによる物性制御」

神田晶申(筑波大数理物質)

15:00- 「2層グラフェンにおけるギャップ内のキャリア応答と高キャリア密度下でのサブバンド散乱」

長汐晃輔(東大院工)

(15:35-15:50 休憩)

15:50- 「カルコゲナイド系層状物質原子膜の作製と素子応用」

上野啓司(埼玉大院理工)

16:25- 「酸化物ナノシートの精密集積とその応用」

長田 実(物材機構MANA)

17:00- 「原子膜における散乱と積層システム」

塚越一仁(物材機構MANA)

 

プログラムはこちら

参加定員

60名

費用

参加費(テキスト代、消費税含む、当日会場にて受付)

会員(協賛学協会等構成員含む)2000円、学生1000円、一般4000円

申込方法

終了しました。

協賛

日本物理学会、日本放射光学会、日本分光学会、日本真空学会(依頼中含む)

備考

問い合わせ先

木口 学 

東京工業大学 理工学研究科

〒152-8551 東京都目黒区大岡山2-12-1/W4-10 西4号館107号室

TEL/FAX : 03-5734-2071  e-mail: kiguti@chem.titech.ac.jp

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〒113-0033 東京都文京区本郷2-40-13 本郷コーポレイション402 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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